研究室紹介

プロセス設計工学

応用力学研究所

総合理工学府 総合理工学専攻

工学部 融合基礎工学科

効率が良い、環境性能が高い、など.....。革新的な特長を備えた新材料は、社会に大きな恩恵をもたらします。これまでの新材料開発では、成膜温度や原料組成など多数の実験パラメータをトライアル&エラーにより最適化しており、開発に多くの時間、労力、コストを要していました。近未来の新材料開発では、「実験」「計測」「計算科学」による取得データを「データ科学」(AI:人工知能)により解析し、トライアル回数を大幅に削減することで、開発期間、労力、コストを低減します。本研究室では、近未来の新材料開発『プロセス・インフォマティクス』技術を開拓し、現実の材料系(窒化物半導体など)に適用しています。

所属教員

寒川 義裕 教授 /草場 彰 助教

主な研究テーマ

  • マルチフィジックス結晶成長シミュレーション技術の構築
  • プロセス・インフォマティクス技術の開発
  • 低損失パワーデバイス用ワイドバンドギャップ半導体材料のプロセス設計
  • 深紫外光源用III族窒化物半導体混晶のプロセス設計
« 戻る